Seit den Anfängen der Halbleiterindustrie werden Chips durch Belichtung hergestellt. Doch um in Zukunft immer kleinere Strukturen und damit auch mehr Transistoren herstellen zu können, ist ein Technologiesprung zu einer neuen Lithographie-Generation nötig. Als ein aussichtsreicher Kandidat gilt die Extreme Ultraviolett EUV-Lithographie. Das Prinzip: Licht mit einer Wellenlänge von 13 Nanometern wird über eine Reflexionsmaske auf die ...
